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小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)- Microwriter ML3

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公司名稱 Quantum量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2020/10/16 10:28:25
訪問次數(shù) 170

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。應(yīng)用領(lǐng)域小型臺(tái)式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國(guó)Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

Microwriter產(chǎn)品特點(diǎn)

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能
Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。

直寫前預(yù)檢查
軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準(zhǔn)確。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。

光學(xué)輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向精度100 nm，方便快捷。

簡(jiǎn)單的直寫軟件

MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件

+ 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件

（DXF, CIF, GDSII, 等）

+ 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

+ 書寫范圍只由基片尺寸決定

Microwriter基本參數(shù)

Microwriter ML3	基本型	增強(qiáng)型	旗艦型
大樣品尺寸	155×155×7mm	155×155×7mm	230×230×15mm
大直寫面積	149mm x 149mm	149mm x 149mm	195mm x 195mm
曝光光源	405 nm LED 1.5W	405 nm LED 1.5W	385 nm LED 適用于SU-8
曝光光源	405 nm LED 1.5W	405 nm LED 1.5W	（365+405nm雙光源可選）
直寫分辨率	1μm	1μm and 5 μm	0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直寫速度	20mm²/min @ 1μm	20mm²/min @ 1μm	25mm²/min @ 0.6μm
		20mm²/min @ 1μm	50mm²/min @ 1μm
		120mm²/min @ 5μm	100mm²/min @ 2μm
		120mm²/min @ 5μm	180mm²/min @ 5μm
對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭	x10	x3 and x10 自動(dòng)切換	x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換
多層套刻精度	±1μm	±1μm	±0.5μm
小柵格精度	200nm	200nm	100nm
樣品臺(tái)小步長(zhǎng)	100nm	100nm	50nm
光學(xué)輪廓Z分辨率	無(可升級(jí))	300nm	100nm
樣品表面自動(dòng)對(duì)焦	是	是	是
灰度直寫(255級(jí))	是	是	是
自動(dòng)晶片檢查工具	無(可升級(jí))	有	有
溫控樣品腔室	無 (可升級(jí))	無 (可升級(jí))	有
虛擬模板校準(zhǔn)工具	無(可升級(jí))	無(可升級(jí))	有
氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái)	無(可升級(jí))	無(可升級(jí))	有