應用與特點：

全譜直讀光譜儀采用國際標準的設計和制造工藝技術，采用全數(shù)字化技術，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術，與國際光譜儀技術同步，采用真空光學室設計及全數(shù)字化激發(fā)光源、的CCD檢測器、高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有的性能、極低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。

技術指標：

項目指標：檢測基體 Fe、Cu、Al、Pb、Zn、Sn、Ni等 

檢測時間：試樣品類型而定，一般25s左右 

光學系統(tǒng)：帕型－龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng) 

波長范圍：130～850nm 

焦距：400mm 

探測器：高性能CCD陣列 

電極：鎢材噴射電極 

分析間隙：3.4mm 

工作溫度：(10～35)℃ 

存儲溫度：(0～45)℃ 

工作濕度：20％～80％ 

氬氣純度要求：99.999% 

氬氣進口壓力：0.5MPa 

氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min，維持流量約0.4L/min 

激發(fā)功率：400VA 

光源類型：全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預燃技術（HEPS） 

放電頻率：100-1000 Hz 

放電電流：400A 

激發(fā)臺孔徑：13mm 

真空系統(tǒng)：真空軟件自動控制、監(jiān)測 

工作電源：220V AC，50/60Hz，保護性接地的單相電源 

儀器尺寸：725*865*550（mm） 

儀器重量：80kg