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CMD2000 有機硅防水涂料研磨分散機

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有機硅防水涂料研磨分散機,有機硅橡膠防水涂料研磨分散機采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國x先x的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

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有機硅防水涂料研磨分散機,有機硅橡膠防水涂料研磨分散機,防水涂料研磨分散機,化工防水涂料研磨分機,德國進口研磨分散機

有機硅防水涂料是以水溶性有機硅樹脂為基料,采用*的工藝配制乳化而成的一類建筑防水涂料。彩色有機硅防水涂料是以硅橡膠膠乳或與其他乳液復合為主要基料,摻入水、無機填料、各種助劑配制而成的水乳型防水涂料,它兼有涂膜防水和滲透性防水材料兩者的優(yōu)良特性,有機硅防水涂料具有良好的防水性、滲透性、成膜性、彈性、黏結性、延伸性和耐高低溫性。

有機硅防水涂料用于新舊屋面、樓頂、地下室、洗浴間、游泳池、倉庫、橋梁工程的防水、防滲、防潮、隔氣等用途。有機硅防水涂料壽命可達20年。

有機硅橡膠防水涂料特點

1、具有*防水性、高彈性和整體性。

2、耐高溫、耐低溫,良好的抗老化性。

3、操作簡單施工安全方便。

4、無毒無味,綠色環(huán)保型。

5、顏色多樣,任意挑選,屬環(huán)境美化型。

上海依肯研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前普通設備轉速的4-5倍。

有機硅防水涂料研磨分散機,有機硅橡膠防水涂料研磨分散機,防水涂料研磨分散機,化工防水涂料研磨分機,德國進口研磨分散機

 

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

 

研磨分散機的優(yōu)勢:

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念,將先x的技術與創(chuàng)x的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中,為設備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.

新技術 采用國x先x的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

 

CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

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CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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