上市時(shí)間：2018年3月
產(chǎn)品用于質(zhì)譜成像領(lǐng)域MALDI樣品前處理，幫助提高成像的信號(hào)強(qiáng)度和分辨率，也可用于原位酶解實(shí)驗(yàn)。創(chuàng)新點(diǎn)如下： 1.底盤和底板：相較于市場(chǎng)同類噴涂設(shè)備，該產(chǎn)品設(shè)計(jì)全新的M5底盤，及抽屜式可加熱樣品底板，更準(zhǔn)確的調(diào)控樣品溫度，保證良好結(jié)晶，以此避免結(jié)晶不均造成的重現(xiàn)性差異大問(wèn)題； 2.噴嘴：*溫控噴嘴，結(jié)合氣體微流控技術(shù)控制蒸發(fā)速度和基質(zhì)結(jié)晶，避免同類產(chǎn)品不可控溫的噴頭出現(xiàn)噴針堵塞，基質(zhì)覆蓋不均導(dǎo)致的重現(xiàn)性低移位效應(yīng)等問(wèn)題； 3.噴頭調(diào)節(jié)：相較傳統(tǒng)固定方式，實(shí)現(xiàn)可調(diào)整高度的噴頭，大移動(dòng)速率由原來(lái)的1350mm/min增加到6500mm/min，配合超精密機(jī)械裝置進(jìn)行移動(dòng)式噴嘴精確定位，保證精細(xì)均勻的覆蓋效果，實(shí)現(xiàn)用戶個(gè)性化的噴涂需求。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
品牌：HTX
產(chǎn)品名稱：M5-Sprayer 全自動(dòng)基質(zhì)噴霧儀
產(chǎn)品型號(hào)：TMSP-M5
產(chǎn)品介紹：全自動(dòng)基質(zhì)噴霧儀HTX M5-Sprayer是在首代TM-Sprayer（TMSP-M3）基質(zhì)噴霧儀基礎(chǔ)上進(jìn)行升級(jí)后的新款產(chǎn)品，發(fā)揮了更加*的性能，尤其是在控溫噴霧技術(shù)基礎(chǔ)上，又采用了全新的M5底盤，可調(diào)節(jié)至高速狀態(tài)的噴頭，以及抽屜式可加熱樣品托盤，進(jìn)一步延伸了處理性能。
一、產(chǎn)品用途
全自動(dòng)基質(zhì)噴霧儀HTX M5-Sprayer主要用于質(zhì)譜成像領(lǐng)域 MALDI 組織樣品制備環(huán)節(jié)的基質(zhì)噴涂，幫助提高 MALDI 質(zhì)譜成像的信號(hào)強(qiáng)度和分辨率，也可用于原位酶解實(shí)驗(yàn)。現(xiàn)多應(yīng)用于生物制藥、蛋白質(zhì)組學(xué)、環(huán)境科學(xué)、病理學(xué)等領(lǐng)域。
二、技術(shù)參數(shù)
1.*全新的 M5 底盤，可調(diào)到高速移動(dòng)狀態(tài)的噴頭，以及抽屜式可加熱樣品底板；
2.*利用*的溫控噴嘴和氮?dú)饬骷夹g(shù)控制蒸發(fā)速度和基質(zhì)結(jié)晶；
3.超精密機(jī)械裝置，移動(dòng)式噴嘴精確定位，確保穩(wěn)定*的基質(zhì)覆蓋效果；
4.*140×180 mm 的大范圍靶板平臺(tái)，滿足高通量樣品處理要求；
5.噴霧模式：水平（HH）、垂直（VV）或交錯(cuò)（CC）模式；
6.*操作模式選擇：超干模式、半干模式、濕模式、FFPE *模式等；
7.*基質(zhì)霧滴直徑＜5μm；
8.*基質(zhì)噴霧流速：0.005 - 0.250 mL/min；
9.*噴嘴/氣體溫度：25-140℃（±2℃）；
10.*噴嘴移動(dòng)速率：高至 5600 mm/min；
11.*噴嘴高度：25 mm, 40 mm, 52 mm 可調(diào)節(jié)；
12.干燥氣體供應(yīng)速度：3-5 L/min；
13.*和大部分基質(zhì)均適用，如 SA, CHCA, DHB, DAN, 9-AA, DHA, CMBT, THAP 等；
14.*系統(tǒng)自帶超過(guò) 30 種酶解和基質(zhì)噴涂實(shí)驗(yàn)方案；
15.樣品制備時(shí)間極短，2~18 min/靶板；
16.用戶友好界面，可調(diào)方法參數(shù)，保存方法隨時(shí)調(diào)用；
17.無(wú)縫匹配主流品牌 MALDI 質(zhì)譜儀；
18.開放式儀器構(gòu)造，易操作，易維護(hù)；
19.產(chǎn)品尺寸大小/重量（W×H×D）：29×41×36 cm(11.5×16×14 in)，16 kg(35 lbs)；
20.整機(jī)*；
