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MRC943真空磁控鍍膜機

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MRC943采用*的臥式結(jié)構(gòu)設(shè)計及特殊結(jié)構(gòu)的陰極，可實現(xiàn)高濺射，高均勻性及高靶材有效使用率，適合從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn)，可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等材料，主要用于集成電路制造、平板顯示器、LOW-E玻璃、ITO、TFT、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。

詳細信息 在線詢價

 

1、設(shè)備名稱：MRC943真空濺射鍍膜機
2、設(shè)備介紹：
MRC943采用*的臥式結(jié)構(gòu)設(shè)計及特殊結(jié)構(gòu)的陰極，可實現(xiàn)高濺射，高均勻性及高靶材有效使用率，適合從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn)，可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等材料，主要用于集成電路制造、平板顯示器、LOW-E玻璃、ITO、TFT、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。
本系統(tǒng)可分為預(yù)真空室、濺射區(qū)域、RF離子清洗平臺，預(yù)真空室具有基片承載盤升降機，使得裝卸基片和濺射工藝同時進行，從而實現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。
3、設(shè)備主要參數(shù)
   1、設(shè)備整體尺寸：1795mm*590mm*210mm（寬*深*高）
2、真空系統(tǒng)：粗抽泵+冷凝泵高真空系統(tǒng)，極限真空達到3*10-7mabr。
3、工件尺寸：300mm*300mm
4、工作節(jié)拍：8分鐘/爐；鍍鋁為例
5、濺射電源：AE MDX直流電源 2臺，AE RFG3001射頻電源 1臺
6、濺射及清洗匹配：全自動
7、氣體控制：MKS 質(zhì)量流量控制器 3路
8、真空檢測：MKS 薄膜壓力規(guī)
9、加熱系統(tǒng)：紅外加熱 3KW
10、控制方式：全自動控制系統(tǒng)
4、鍍膜種類
   該設(shè)備可以鍍Ti、Ni、Cr、Al、Cu、AZO 、ITO 、Mo 等
 


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