108C 鍍碳儀（蒸鍍儀）108C鍍碳儀是用于掃描電鏡能譜分析的的鍍碳儀之一。 分類： 電鏡制樣設備, 鍍膜儀 標簽： 鍍碳儀 Brand:Ted Pella
描述
108C鍍碳儀是用于掃描電鏡能譜分析的的鍍碳儀之一。
主要特性
l *的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統可以在膜厚大約20nm左右進行多次蒸發(fā)，無須切削或調整碳棒形狀。
l 108C中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質量的鍍膜效果。該鍍膜系統結構緊湊，容易操作，抽真空周期短。選件MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀可以精確地得到所需的碳膜厚度。
l 使用新型的蒸發(fā)裝置：電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現性。功率消耗低，碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過脈沖或連續(xù)的方式操作。
l 可選擇手動或自動方式操作。
l 自動模式下，蒸發(fā)源按程序設定的電壓和時間進行噴鍍。手動模式下，*的設計允許以脈沖或連續(xù)的方式操作，并通過旋鈕控制輸出電壓。
l 可配備MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）。分辨率優(yōu)于0.1nm。在15nm至25nm的碳膜厚度范圍內，重現性可優(yōu)于5％。
| 技術參數 | |
| 樣品室大小 | 直徑120 x 120mm 高 (4.75 x 4.75″) |
| 蒸發(fā)源 | Bradley型 (6.15mm rods),高強度不銹鋼結構 |
| 蒸發(fā)控制 | 基于微處理器的反饋回路控制，能夠進行遠程電流/電壓感應，基于真空水平變量的安全互鎖功能，電流180A，提供過流保護 |
| 樣品臺 | 可裝置12個樣品座，高度在30mm范圍內可調 |
| 模擬計量 | 真空: atmos – 0.001mb; 電流: 0-200A |
| 厚度監(jiān)控 | MTM-10 高分辨膜厚監(jiān)控儀(選件) |
| 控制方法 | 自動蒸發(fā)控制，使用程序設定的電壓和時間 以脈沖或連續(xù)方式進行*手動控制 數字定時器（0－10s） 數字電壓設置（0.1 to 6.0V） |
| 真空系統 | |
| 真空泵 | 2級直連式高速真空泵 |
| 抽氣速率 | 100L/MIN |
| 極限真空 | ≤1 x 10-3 Torr |
| 噪音 | 50dB |
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