KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全。配備7寸觸摸屏人工界面，具有電流時(shí)間工藝儲(chǔ)存功能。配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及自動(dòng)電動(dòng)樣品擋板功能。
鄭科探KT-Z1650CVD 小型真空蒸鍍儀

鄭科探KT-Z1650CVD 小型真空蒸鍍儀

KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全。配備7寸觸摸屏人工界面，具有電流時(shí)間工藝儲(chǔ)存功能。配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及自動(dòng)電動(dòng)樣品擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)大部分金屬（金，銀，銅，鉻，鎳等）和有機(jī)物進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積。真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

鄭科探KT-Z1650CVD 小型真空蒸鍍儀

三：主要技術(shù)要求

1．    控制方式：7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

2．    加熱方式：數(shù)字式功率調(diào)整器

3．    鍍膜功能：0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

4．    功率：≤1200W

5．    輸出電壓電流：電壓≤12V  電流≤120A

6．    真空度：機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）   分子泵≤10^-3Pa

7．    擋板類型：電控

8．    真空腔室：石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

9．    樣品臺(tái)：可旋轉(zhuǎn)φ62  （可安裝φ50基底）

10．  樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速：8轉(zhuǎn)/分鐘

11．  樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離：70-140mm

12．  蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)：≤1800℃

13．  支持蒸發(fā)坩堝類型： 鎢絲藍(lán)  帶坩堝鎢絲藍(lán)  鎢舟  碳繩  陶瓷坩堝   石英石坩堝

14．  預(yù)留真空接口：KF25抽氣口  KF16真空計(jì)接口  KF16放氣口  6mm卡套進(jìn)氣口

鄭科探KT-Z1650CVD 小型真空蒸鍍儀