產(chǎn)品簡介：蔡司 Xradia 410 Versa三維亞微米成像的主力解決方案實驗室無損亞微米顯微鏡的空白Xradia 410 Versa 高性能 X 射線顯微鏡和低功能計算機斷層掃描（CT）系統(tǒng)之間的空白。Xradia 410 Versa 以業(yè)界出眾的分辨率、出色襯度和優(yōu)質原位性能提供無損 3D 成像，使您可以實現(xiàn)對各種尺寸樣品的開創(chuàng)性研究。低成本高性能的標準化主力解決方案強化了成像流程，在不同的實驗室環(huán)境中應用自如。

1. 特點：

   業(yè)界的四維和原位成像性能，適用于多種樣品尺寸和樣品類型

   1.Xradia 410 Versa X 射線顯微鏡為多種樣品和研究環(huán)境提供了經(jīng)濟靈活的 3D 成像解決方案。無損X射線成像技術確保了貴重樣品的利用率。這款顯微鏡可以實現(xiàn)900 nm的真實空間分辨率和100 nm 的可實現(xiàn)體素。的吸收和相位襯度技術（可用于軟材料和低原子序數(shù)材料）提供了更多的功能克服傳統(tǒng)計算機斷層掃描技術的局限性。

   2.Xradia Versa 超越了傳統(tǒng)微米 CT 和納米 CT 系統(tǒng)的限制，為拓展您的研究打下堅實的基礎。傳統(tǒng)斷層掃描技術僅依賴于單級幾何放大，而Xradia 410 Versa 依靠同步輻射的光學器件，采用了蔡司的兩級放大技術。Xradia Versa系列擁有靈活的襯度、高易用性和蔡司突破性的大工作距離下的高分辨率（RaaD）特性，實現(xiàn)在實驗室中對各種類型和尺寸的樣品和多種應用進行的探索。多尺度范圍成像功能可以對同一樣品進行大范圍的多倍率成像，使其能表征材料隨時間（4D）或在模擬的環(huán)境條件下（原位）的演化。

   3.另外，搜索和掃描控制系統(tǒng)（Scout-and-Scan）可根據(jù)不同的設置實現(xiàn)多種工作流程環(huán)境，使得Xradia 410 Versa方便不同經(jīng)驗水平的用戶使用。

   
   

   優(yōu)勢：

   Xradia Versa 顯微鏡架構運用了兩級放大倍率技術，從而讓您不受工作距離的限制，始終保持較高空間分辨率（RaaD）。在級中，使用傳統(tǒng) micro-CT 系統(tǒng)借助幾何放大倍率來放大樣品圖像。在第二級中，閃爍器會將 X 射線轉換成可見光，然后再進行光學放大。降低對幾何放大倍率的依賴使 Xradia Versa 顯微儀器可以在較長工作距離內(nèi)保持亞微米分辨率，從而讓您能夠更高效地研究不同大小的樣品，包括在原位樣品室內(nèi)。

   ·  無損三維成像，更大限度保護和擴展貴重樣品的利用率

   · <0.9 µm 的空間分辨率和 100 nm 體素大小

   ·  適用于低原子序數(shù)材料和軟組織的成像襯度解決方案

   ·  業(yè)界的四維和原位成像技術，適用于不同尺寸和材料類型的樣品

   ·  搜索和掃描（Scout-and-Scan™）功能可實現(xiàn)多用戶環(huán)境下的簡化工作流程

   ·  大負荷樣品臺、擴展的光源及探測器行程

   ·  幾乎無樣品制備需求

   ·  通過多級放大探測器實現(xiàn)輕松導航

   ·  利用自動多點斷層成像和重復掃描實現(xiàn)連續(xù)操作

   ·  高速重構

   ·  可選配的Versa原位輔助裝置支持環(huán)境樣品艙內(nèi)（如線纜和管線）的配套設施，為實現(xiàn)原位實驗更高3D分辨率提供更優(yōu)異的成像性能和輕松設置

   ·  可選配的自動進樣系統(tǒng)可編程和同時運行多達14個樣品，提高了生產(chǎn)效率，全自動工作流程可用于大體積掃描