托托科技 高精度 無(wú)掩模光刻機(jī)無(wú)論是在科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等眾多領(lǐng)域，我們的無(wú)掩模光刻機(jī)都能提供解決方案。
應(yīng)用方向：二維材料
托托科技自主研發(fā)的“指引光”和“直接繪圖”功能在感興趣的二維材料上直接繪制電極圖案，靈活高效。
應(yīng)用方向：微流控
無(wú)掩模光刻機(jī)可用于制作高深寬比（10:1）結(jié)構(gòu)，在微流控芯片的制造中具有高精度、高靈活性，廣泛應(yīng)用于單細(xì)胞分析、傳感器等領(lǐng)域。
應(yīng)用方向：MEMS
無(wú)掩模光刻技術(shù)在MEMS領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，可高精度制造微米級(jí)圖案，通過(guò)多層套刻的方式進(jìn)行復(fù)雜結(jié)構(gòu)的加工。
應(yīng)用方向：微透鏡
通過(guò)灰度光刻的方式可以精確控制表面形貌從而生成復(fù)雜的衍射結(jié)構(gòu)，如光柵、菲涅爾透鏡、微透鏡等。
應(yīng)用方向：光學(xué)衍射器件
灰度光刻在光學(xué)調(diào)制器件中的應(yīng)用通過(guò)精確控制光刻強(qiáng)度，制造出高度精細(xì)的光學(xué)微結(jié)構(gòu)，用于實(shí)現(xiàn)光波的調(diào)制與傳輸特性?xún)?yōu)化。
應(yīng)用方向：浮雕結(jié)構(gòu)
灰度光刻在防偽浮雕結(jié)構(gòu)中的應(yīng)用通過(guò)精細(xì)調(diào)控光照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)高精度的三維微結(jié)構(gòu)，增強(qiáng)防偽標(biāo)識(shí)的復(fù)雜性和難以復(fù)制性。
應(yīng)用方向：超表面
光刻工藝在超表面方向的應(yīng)用通過(guò)精確加工微納米級(jí)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)光波的精細(xì)操控和特定波長(zhǎng)、極化等光學(xué)性質(zhì)的調(diào)制。
應(yīng)用方向：量子光學(xué)
光刻工藝在量子光學(xué)光波導(dǎo)方向的應(yīng)用通過(guò)精密刻蝕微納尺度的光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)量子態(tài)的傳輸和操控，促進(jìn)量子信息處理與傳輸技術(shù)的發(fā)展。
應(yīng)用方向：掩模版制造
高速（可達(dá)1200 mm2/min）的托托科技 高精度 無(wú)掩模光刻機(jī)適用于小批量、定制化掩模版制備，減少對(duì)外部依賴(lài)，縮短設(shè)計(jì)迭代周期。
