X射線光電子能譜儀-XPS廠家型號：賽默飛Escalab250Xi技術(shù)參數(shù)：ESCALAB250Xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能

X射線光電子能譜儀 -XPS

廠家型號：賽默飛 Escalab250Xi

技術(shù)參數(shù)：

ESCALAB 250Xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能。

1. X射線源靶：單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶；分析區(qū)域：20μm~900um之間連續(xù)可調(diào)；靈敏度：1*106 cps；成像空間分辨率：小于3μm 。

2. 真空系統(tǒng)：樣品分析室（SAC）：小于5.0×10-10 mbar（壓強）；樣品處理室（STC）：小于7.0×10-9 mbar（壓強）。
3. 離子槍：離子源：Ar ；束流：6μA（）at 3keV 。
4. 光源：He紫外光源。

應用范圍：

在金屬、玻璃、高分子、半導體、納米材料、生物材料以及催化等領(lǐng)域有廣泛應用。

1.鑒別樣品表面的元素種類、化學價態(tài)及相對含量；

2.深度剖析XPS,結(jié)合離子刻蝕技術(shù)對樣品（如薄膜等）進行成分深度分布分析；

3.XPS成像，可對元素或化學態(tài)進行表面分布分析；

4.利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區(qū)表面信息。

表征項目：

XPS常規(guī)、價帶譜VB-XPS、功函數(shù)UPS、元素的俄歇譜表征AES，XPS深度蝕刻、微區(qū)成像。

樣品要求：

1.元素含量不低于1% ；

2.粉末樣品≥10mg ；液體樣≥0.5ml ;塊狀樣：長寬厚 5*5*3mm 。